‘삼성 반도체 핵심 기술’ 중국에 빼돌린 전직 부장, 징역 7년 선고

벌금 2억원도 선고 받아…협력사 직원은 징역 2년 6개월
18나노 D램 공정 정보, 중국 CXMT에 무단 유출 혐의

서울 서초구 삼성전자 서초사옥. <사진=연합뉴스>

삼성전자의 반도체 핵심 기술을 중국 업체에 유출한 혐의를 받는 삼성전자 전직 직원과 협력업체 직원이 1심에서 중형을 선고 받았다.

서울중앙지법 형사합의25부(지귀연 부장판사)는 19일 산업기술보호법 위반 등 혐의로 구속 기소된 전 삼성전자 부장 김모씨에게 징역 7년과 벌금 2억원을 선고했다. 협력업체 직원 방모씨에게는 징역 2년 6개월을 선고했다.

재판부는 “칩 핵심 기술은 건전한 경쟁을 심각하게 저해하고, 이를 만든 피해 회사의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 국가 산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대 범죄다”며 “피해 회사의 손해가 가볍지 않고, 특히 삼성전자의 피해는 어마어마한 액수에 이를 것으로 예상된다”고 말했다.

김모씨는 국가 핵심 기술인 삼성전자의 18나노 D램 공정 정보를 중국 CXMT(창신메모리테크놀로지)에 무단 유출해 제품 개발에 사용하게 한 혐의 등을 받는다.

앞서 국가정보원은 이들의 반도체 기술 유출 정황을 포착해 2023년 5월 검찰에 수사를 의뢰했다.

또 김모씨는 방모씨와 공모해 반도체 증착 장비 설계 기술 자료를 빼돌린 혐의도 받는다.

[CEO스코어데일리 / 오창영 기자 / dongl@ceoscore.co.kr]

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